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2024-05-10 3 污水处理
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含氟废水主要来源于来自于自芯片制造历程中的扩散工序及化学机械研磨工序,在对硅片及相关器皿的清洗历程中也多次用到氢氟酸。对粘膜、上呼吸道、眼睛、皮肤组织有极强的破坏作用。污染物主要为氟离子。含磷废水主要来源于生产工程中的铝刻蚀液。有机废水,由于生产工艺的差别,有机溶剂的使用量关于半导体行业而言具有很大的差别。可是作为清洗剂,有机溶剂仍然普遍使用在制造封装的各个环节上。部分溶剂则成为有机废水排放。有机废水主要来源于IPA溶剂、显影液、TO刻蚀液、酸洗塔酸碱废水、酸洗塔有机废水。
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